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绝缘体上的硅衬底制造方法,用于形成如光学元件,包括形成非晶层的供体基板和支撑衬底转移供体基板的层之前再结晶非晶层

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芯片的绝缘基材制造方法如光组件组成,包括形成非晶层基材,并在捐助国recrystallizing非晶层传输层前的捐助者支助基材基材上

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硅绝缘衬底制备方法成形如光学组件,涉及在捐助基体中形成非晶层和传输层的捐助基板支持衬底上之前 recrystallizing 非晶层

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形成的光学组分即绝缘体上硅薄膜基体制造的方法,在施主基体介入形成无定形的层数和重结晶无定形的层数在转移施主基体层数前在支持基体的

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硅在绝缘体基体制造的方法为形成即。 光学组分,在施主基体在支持基体介入形成无定形的层数和重结晶无定形的层数在转移施主基体层数之前
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