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半导体工件具有基板,轻松的缓冲层包括内宽松的缓冲层的分级部分形成于基板分级部分,和紧张的过渡层(S)

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半导体工件基体、放松缓冲层包括分级部分形成了承印物,和紧张过渡层[s]在评级部分的放松缓冲层

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半导体工件有衬底,放宽的缓冲层包括分级衬底,形成部分和劳损过渡图层内的轻松的缓冲层分级部分

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半导体制件有基体、轻松的缓冲层数包括在基体形成的被分级的部分和被劳损的过渡层数在轻松的缓冲层内的被分级的部分

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半导体制件在轻松的缓冲层之内的被分级的部分有基体、轻松的缓冲层数包括在基体形成的被分级的(部分) 和被劳损的过渡层数s
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