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在一般情况下,移动离子污染物来自晶圆制造来源,如一般制造环境,人类,处理化学材料,加工设备和组装材料。包装和处理材料也可以自由流动的离子转移到涉及芯片制造的产品和设备。而钠(Na +)是最常见的污染物,并显示出最大的流动性,由于其小的原子半径,还有许多其它通用移动离子污染物如氯离子和钾,仅举几例。钠,然而,通常是第一移动离子污染物时麦克风发生怀疑,因此必须尽量减少和控制

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一般情况下,移动离子污染物来自晶圆制造来源一般制作环境、 人类、 处理化学品、 加工设备、 和装配材料等。包装和处理材料还可以将传输移动离子到产品和芯片制造中所涉及的设备。虽然钠 (Na +) 是最常见的污染物和展品因其小的原子半径最大的流动性,有很多其他常见移动的离子污染物如氯和钾,仅举几例。但是,钠,通常是第一的移动离子污染物怀疑当 MIC 发生,因此必须予以最小化和控制

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一般来说,流动离子污染物来自薄酥饼制造来源例如一般制造环境,人,处理化学制品、处理设备和汇编材料。包装和处理材料可能也转移流动在微集成电路制造业中介入的离子到产品和设备。

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一般来说,流动离子污染物来自薄酥饼制造来源例如一般制造环境,人,处理化学制品、处理设备和汇编材料。 包装和处理材料可能也转移流动在微集成电路制造业介入的离子到产品和设备。 当钠 (Na+) 最是污染物共同性并且陈列最伟大的流动性由于它的小原子半径时,有许多其他共同的流动离子污染物例如氯化物和钾,命名一些。 钠,然而,通常是怀疑当的第一流动离子污染物MIC发生时,并且必须减到最小和控制
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